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多通道膜厚监测仪
M73
膜厚监测仪，通过石英晶体的压电效应，可以在线式实时探测探头表面0.1nm的膜厚变化，是精密真空镀膜的重要核心部件，在光学镀膜、显示、光伏、半导体等行业都有重要应用，例如OLED蒸镀、ITO溅射、半导体制程、光伏功能层电极层等。
我司多通道膜厚监测仪，采用石英晶体压电陶瓷效应，可精确探测振荡频率变化至1Hz，通过膜厚监测仪的准确读数，结合精准的镀膜功率控制系统，可以控制镀膜速率精确至0.1nm/s。多通道膜厚监测仪，可以拓展至3个独立的膜厚监测系统，含有三路膜厚探头，分别监测不同空间位置的镀膜速率，如加热镀膜源位置、样品台位置、磁控靶头位置等，互相印证以便更准确的控制真空镀膜过程。
直连探头，无需振荡器
我司自主知识产权的在线式膜厚监测系统，包括多通道膜厚监测仪和可伸缩的高精密膜厚水冷探头。本多通道膜厚监测仪，也兼容其他品牌膜厚探头，无需额外振荡器，直接将膜厚探头通过SMA接口数据线连接至膜厚仪，即可监测镀膜厚度。膜厚探头可伸缩调整高度，可在样品台处，也可在镀膜源处。
多通道独立控制和同时监测
我司多通道膜厚探头，均可实现独立控制，独立输入参数，即我司产品可以同时实现不同材料镀膜过程的同时监测。
准确性保证
适用镀膜材料为所有已知密度常用镀膜材料，声阻抗和Tooling值矫正可以保证监测厚度的准确性。
晶振寿命监测模块
我司膜厚仪含有晶振寿命监测模块，可以及时提醒更换晶振片，避免出现镀膜过程中晶振失效引起镀膜控制失败。
全触控控制和定制选项
我司产品采用全触控控制，所有参数输入和显示均在屏幕上完成，默认屏幕为7寸屏。根据需要产品可以定制为5寸屏和2U机架型外壳。
产品型号命名
根据屏幕大小和通道数，型号记为MAB，其中A为5或7表示屏幕尺寸，B为1、2、或3表示通道个数。
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